为毕业作品展 撑起版权登记的保护伞

2020年全国各大艺术院校毕业生作品展已经陆续拉开帷幕，今年绝大多数艺术院校的毕业展采用了线上展览模式，但版权侵权与版权保护问题同时受到了各大艺术院校的领导和师生的强烈关注。据悉，日前中央美术学院(微博)对所有参加线上毕业展览的学生发出提示通知，2020届毕业生请关注毕业创作作品版权登记，并推荐相关版权登记平台进行版权存证和版权登记。保护毕业作品原创，维护创新价值。 　　中央美术学院在通知中指出：“线上特有的展出方式对毕业生的原创保护提出了更高的要求，如果毕业生不重视作品版权保护问题，就会给侵权者带来可乘之机，就可能会导致出现大量模仿、抄袭、改造毕业生原创设计的事件发生。” 　　对应今年艺术毕业生线上展览的新模式，中央美术学院与相关版权登记平台的合作，体现了院领导对毕业生作品版权保护的高度重视，加强了毕业生版权自我保护意识，率先走出了毕业展版权保护的第一步，起到了引领和示范的作用。 　　数年苦读，师教栽培，原创核心，价值版权，全部凝聚在毕业创作之中。互联网的瞬间传播，海量数据，信息获取给毕设展提供了崭新的模式，但同时也为侵权者带来了零成本的信息窃取渠道。中央美术学院的通知反应了对当前毕业展版权问题的思考，也道出了广大艺术院校领导和师生的担忧。 　　裸露的线上展出模式让我们的原创版权被盗用同时也会稀释毕业生人才的核心价值，更会让就业问题雪上加霜；对知识产权的保护，对教育成果捍卫，也是创新中国、创意中国的必要保障。 　　今年艺术生毕业作品展览，将是一个围绕版权保护与版权侵权激烈冲突的展览，我们乐见全国艺术院校都能拿起版权保护武器，从源头支起保护网，杜绝盗版侵权的事件发生，使艺术毕业生的人才价值得到完美体现，促进艺术教育事业的良性发展，用实际行动践行国家关于知识产权保护的战略。

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